TS200-SE プローブシステム
特長と利点
ShielDEnvironment™
MPI ShielDEnvironmen™ は、プローブシステム自身に設置された高性能な環境チャンバで、超低ノイズ、低キャパシタンス測定に必要なEMIシールド、遮光環境を実現します。
ShielDCap™
MPI ShielDEnvironment™は、最大RF4ポート、またはDC/ケルビンポートを8 ポートまで搭載可能です。
MPI ShielDCap™ は簡単に取り外しができ、さらEMIシールド対応のプローブ・カードホルダにも容易に交換でき、作業効率に大きく貢献します。
エアベアリング・ステージ
独自のエアベアリング・ステージにより片手で簡単にウエハのXYポジショニングおよびローディングを可能にしました。XY/θ マイクロメ ータ機構を搭載することにより微調整(25×25 mm)も可能にしました。チャックのZ軸調整機構については本ページ下方にてご紹介します。
Probe Hover Control™
付きプラテンリフト
測定精度はコンタクト精度に依存します。再現性の高い(1 µm )プラテン・ハンドル機構とともに、コンタクト、コンタクト・セパレーション(300 µm)ロード(3 mm)の三つの独立したポジショニングが可能となっており、プローブ・被測定物の破損を防ぐセーフティ・ロック機能ももっています。本機能はTS200-SEに標準で装備されており、あやまってプローブやウエハを損傷することを防止するとともに、直感的にかつ正確に位置決め／コンタクトを可能にし、再現性の高い測定を実現します。
さらにProbe Hover Control™ のホーバ高さ機能( 50 、100 、150 µm) がついており、パッドにプーブロを簡単に当てることが可能になります。
チャックZ軸調整機構
TS200-SEはエアベアリングXYステージに加え5 mm 高精度Z軸調整機構を持っており、精度の高い正確コなンタクトおよびオーバートラベル（スークト）、プローブカードのドロップ・チップ補正を可能にします。
1 mm高精度目盛りにより、現在位置を正確に把握できます。また20 mm空気圧リフトによりウエハの簡単で安全なローディング／ア ンロードが可能になります。
チャック・オプション
TS200-SEではお客様のさまざまな要求仕様およびご予算を満足するチャックオブションを用意しております。
- 常温チャック：同軸、トライアキシャル、RFチャック(校正基板用のセラミック補助チャック2 台搭載可能）
- 空冷ERS温度チャック(-60~ 300 ℃まで選択が可能）
温度制御組み込み
ウエハロード用のドアは15℃以下になると自動的にロックされるようになっております。これはMPI独自の機能で、TS200-SEは業界一安全性の高いマニュアル型プローバシステムです。さらに温度チャックの制御はタッチスクリーンにて操作でき、オペレータが操作しやすいプローブ・システム前面に設置されております。
ERS 社AC3冷却技術を採用
温度チャックは、ERS社が特許をもつAC3冷却技術を採用しており、ShielDEnvironment™ 内の空気をパージする際、「使用済」ドライエアを再利用することにより他社のプローバーと比較して、ドライエアの消費量を30~ 50％も削減することが可能になりました。
顕微鏡オプション
MPI顕微鏡のラインアップとして、MPI顕微鏡SuperZoom SZ10シングル・チューブ型顕微鏡、または12倍、45 mmの作動範囲を持つMegaZoom™ MZ12、人間工学的にすぐれた、20倍接眼レンズ付10倍光学ズームのEyeZoom™ EZ10顕微鏡を用意しております。EZ10は90 mmの広い作動距離を確保でき、10 µmの光学的分解能を持ち合わせております。
アップグレード
TS200-SEはモジューラ設計を採用しており、温度チャック、顕微鏡、ポジショナ等アープションによりアップグレードもしくは構成を変更することが可能なため将来のCOO (Cost of Ownership) に頁献します。
MPIのShielDEnvironment™ 付きMPI TS200-SEマニュアル型プローブシステムは優れたEM Iシールド環境を提供し、デバイス特性評価、モデリング、RF /マイクロ波測定、WLR評価、故障解析、設計検証およびハイパワーデバイス測定に対応します。