TS150、TS200、TS300プローブシステム
MPI TS150 - 150 mm Manual Probe System MPI TS200 - 200 mm Manual Probe System MPI TS300 - 300 mm Manual Probe System
MPI TS150、TS200、TS300プローブシステムは優れた機能が豊富なマニュアル型ステーションで、 簡単、 直惑的、 便利な機能により、高精度な測定を保証します。
特長と利点
エアベアリング・ステージ
MPI独自のエアベアリング・ステージにより片手で簡単にウェハのXYポジショニングおよびローディングを可能にしました。またXY/θマイクロメータ移動機構を搭載することによりさらなる微調整(25×25 mm)が可能です。
独自のプラテンリフト機構
Probe Hover Control™
測定精度はコンタクト精度に依存します。 再現性の高い(1µm)プラテンリフト機構とともに、 コンタクト、 コンタクト・セパレーション(300 µm)、 ロー ド(3 mm)の3つの独立したポジショニンが可能となっており、プローブ・被測定物の破損を防ぐセーフティ・ロック機能も持っています。これらの機能は高周波測定およびハイパワー測定時に大変重要で、正確で安定な測定を保証いたします。
TS200およびTS300には、さらにホーバ高さ(50または100 um)機能がついており、パッドにプロ ーブを簡単にコンタクト可能です。
高さ調整用スケール
プローブ・プラテンは25 mmの高さ微調整がついています。1 mm高精度目盛りにより現在位置を正確に把握できます 。
チャック・オプション
お客様のさまざまな要求仕様およびご予算によりチャック・オプションをご用意しております。 ラインアップにはMPI製同軸チャックおよびトライアキシャル・チャック（同軸10 kV、トライアキシャル3 kV)もしくはERS社製温度チャックを用意しております。 写頁はサーマル・タッチ・コントローラを示ており、温度設定が簡単に行えます。
補助チャック
RFチャックは正確なRF校正に必須なセラミック製補助チャックを搭載しております。
顕微鏡および顕微鏡保持機構
DC/CV測定には実体顧微鏡を、RF測定、ロードプルなどの測定にはシングル・チューブ拡大型顕微鏡などを用意しています。
顕微鏡チルト機構
上方90度へ空気圧で簡単に操作できる顕微鏡チルト機構はプローブのセットアップ、交換を容易にします。
防振プラットフォーム
すべてのマニュアル・プローブ・システムは防振機構を搭載しております。これにより安定した信頼性の高いプロービングが可能になります。さらに優れた防振が必要な場合には防振プラットフォーム/テーブルがオプションで用意されています。
暗箱
超低ノイズDC測定などでは暗箱の中にプローブシステムを設置していただくことによりEMIシールド、 遮光を強化できます。
MPI TS150、TS200、TS300プローブシステム
これらのプローブシステムはウェハサイズが150、200および300mmまでのウェハおよび基板の測定用に設計されており、 費用対効果の高いマニュアル型プローブシステムとなっております。 故障解析、 設計検証およびIC設計、WLR評価、MEMS、ハイパワーデバイス評価 、デバイス特性評価、モデリング等にご使用いただけます。