MPI Probe Station | Probe Stations | 150 mm Probe Stations | 200 mm Probe Station | 300 mm Probe Station | Wafer Probe Stations | Manual Probe Stations

Probe Stations | RF Postioner |  RF Probe Station | Manual Probe System | RF Probe Systems |  Wafer Test | Wafer Prober Machine 

RF Probe | Probe Systems

150 mm Probe Stations | Wafer Prober Machine

RF Probe Systems | 300 mm Wafer Probing

Probe System | Wafer Probing | Probe Systems | 200 mm Wafer Prober

TS150、TS200、TS300プローブシステム

Slider

MPI TS150TS200TS300プローブシステムは優れた機能が豊富なマニュアル型ステーションで、 簡単、 直惑的、 便利な機能により、高精度な測定を保証します。

特長と利点

エアベアリング・ステージ

MPI独自のエアベアリング・ステージにより片手で簡単にウェハのXYポジショニングおよびローディングを可能にしました。またXY/θマイクロメータ移動機構を搭載することによりさらなる微調整(25×25 mm)が可能です。

MPI TS150, TS200, TS300 - The Unique Air Bearing Stage

Slider

Slider

独自のプラテンリフト機構
Probe Hover Control™

測定精度はコンタクト精度に依存します。 再現性の高い(1µm)プラテンリフト機構とともに、 コンタクト、 コンタクト・セパレーション(300 µm)、 ロー ド(3 mm)3つの独立したポジショニンが可能となっており、プローブ・被測定物の破損を防ぐセーフティ・ロック機能も持っています。これらの機能は高周波測定およびハイパワー測定時に大変重要で、正確で安定な測定を保証いたします。

TS200およびTS300には、さらにホーバ高さ(50または100 um)機能がついており、パッドにプロ ーブを簡単にコンタクト可能です。

高さ調整用スケール

プローブ・プラテンは25 mmの高さ微調整がついています。1 mm高精度目盛りにより現在位置を正確に把握できます 。

MPI TS150, TS200, TS300 - Platen Height Adjustment Scale

コンパクトで堅牢なプラテン設計

コンパクトでかつ堅牢なプラテンにはDCポジショナ最大10台またはRFマイクロポジショナを4台まで搭載可能で、さまざまなアプリケーションに対応しております 。

MPI TS150, TS200, TS300 - Compact Platen

チャック・オプション

お客様のさまざまな要求仕様およびご予算によりチャック・オプションをご用意しております。 ラインアップにはMPI同軸チャックおよびトライアキシャル・チャック(同軸10 kV、トライアキシャル3 kV)もしくはERS社製温度チャックを用意しております。 写頁はサーマル・タッチ・コントローラを示ており、温度設定が簡単に行えます。

MPI TS150, TS200, TS300 - Integrated Thermal Chuck Controller Panel

補助チャック

RFチャックは正確なRF校正に必須なセラミック製補助チャックを搭載しております。

MPI Ceramic Auxiliary Chucks

顕微鏡および顕微鏡保持機構

DC/CV測定には実体顧微鏡を、RF測定、ロードプルなどの測定にはシングル・チューブ拡大型顕微鏡などを用意しています。

MPI Microscope Movement

顕微鏡チルト機構

上方90度へ空気圧で簡単に操作できる顕微鏡チルト機構はプローブのセットアップ、交換を容易にします。

Slider

防振プラットフォーム

すべてのマニュアル・プローブ・システムは防振機構を搭載しております。これにより安定した信頼性の高いプロービングが可能になります。さらに優れた防振が必要な場合には防振プラットフォーム/テーブルがオプションで用意されています。

MPI TS150 - Vibration Isolation Platform

暗箱

超低ノイズDC測定などでは暗箱の中にプローブシステムを設置していただくことによりEMIシールド、 遮光を強化できます。

MPI Dark Box

MPI TS150TS200TS300プローブシステム

これらのプローブシステムはウェハサイズが150200および300mmまでのウェハおよび基板の測定用に設計されており、 費用対効果の高いマニュアル型プローブシステムとなっております。 故障解析設計検証およびIC設計WLR評価、MEMSハイパワーデバイス評価 デバイス特性評価モデリング等にご使用いただけます。

 

error: