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MPI TS150 / TS200 / TS300 マニュアル・プローバー
MPI TS150 / TS200 / TS300 マニュアル・プローバー
MPI TS150、TS200、TS300マニュアル・プローバーはウェハーサイズ プローブステーションはエキサイティングな機能が豊富で、毎日の操作を行います 簡単、直感的、便利 確保することによって 高精度な測定へとつながります。
特長と利点
エア・ベアリング ステージ
MPI独自の エア・ベアリング ステージ により片手で簡単にウェハーのXYポジショニングおよびローディングを可能にしました。またXY/Θマイクロメータを搭載することによりさらなる微調整(25x25mm) をすることを可能にしました。
独自のプラテンリフト機構
Probe Hover Control™
測定精度はコンタクト精度に依存します。 再現性の高い(1μm)プラテン・ハンドル機構とともに、コンタクト、コンタクト・セパレーション(300μm)、ロード(3mm)の３つの独立したポジショニングが可能となっており、プローブ・被測定対象の破損を防ぐセーフティー・ロック機能も持ち合わせております。これらの機能は高周波測定およびハイパワー測定時に大変重要で、正確で安定な測定を保証いたします。
TS200およびTS300にはさらにホーバ高さ(50または100um)機能がついており、パッドにプローブを簡単に便利に当てることが可能になります。
高さ調整用スケール
プローブ・プラテンは25ｍｍの高さ微調整が可能です。1mm高精度目盛りにより、現在位置を正確に把握できます。
コンパクトで堅牢なプラテン設計
コンパクトでかつ堅牢なプラテンにはDCポジショナ最大１０台またはRF ポジショナー ４台まで搭載可能で、さまざまなアプリケーションに対応しております。
補助チャック
RFチャックには正確なRF校正に必須なXNUMXつのセラミック製補助チャックを搭載しております。
顕微鏡および顕微鏡保持機構
DC/CV測定には実体顕微鏡を、RF測定、ロードプルなどの測定には単眼鏡筒高倍率ズーム顕微鏡など、多数取りそろえております。
顕微鏡チルト機構
上方90度へ空気圧で簡単に操作できる顕微鏡チルト機構はプローブのセットアップ、交換を容易にします。
防振プラットフォーム
すべてのマニュアル・プローバーは防振プラットフォームを搭載しております。これにより安定した信頼性の高いプロービングを可能とし、より正確な測定結果が得られます。さらに高い防振レベルを必要とする測定の場合、防振機構付きプローバまたは防振台はオプションお選びいただけます。
暗箱
超低ノイズDC測定などには暗箱にプローバーを設置していただくことによりEMIシールド、遮光環境を実現します。
MPI TS150、TS200、TS300マニュアル・プローバーはウェハーサイズ 150、200および300mmまでの基板およびウェーハの高精度な評価測定用に設計されており、費用効果の高いマニュアル・プローバーとなっております。 故障解析, 設計検証およびIC設計, WLR評価、MEMS、 ハイパワーデバイス対応 、 デバイス特性評価、モデリング.
