TS2500 シリーズ – フルオート・プローブシステム 、 24/7 製造テスト
特長と利点
優れたスループット
自動化には100、150または200 mmデュアル・ウエハ・カセットホルダとエンドエフェクタが使われ、迅速なウエハ交換と高速テストが可能になります。TS2500シリーズでは最大で10ダイ/秒(システム構成による)の高速測定が可能であり、RF、ハイパワーデバイスやICの製造ラインにおける電気特性測定に最適なシステムになります。
先進アライメント技術
標準のオフアキシスまたはチャックに搭載したアッパールッキング・カメラにより、TS2500では最新のアライメントが実行できます。この機能を使い複雑なRF測定や ハイパワーデバイスの自動測定が可能になります。MPIのPA事業部の持つ長年の経験はこれらの技術の信頼性を保証します。
オプションでウエハID リーダーも付けられます。
電圧、高電流、ウルトラ・ハイパワープローブ
MPIのハイパワープロービング・ソリューションには専用のMPI固有のマルチコンタクト・チップ型低コンタクト抵抗保証の高電流プローブが含まれます。また、MPlの高電圧プローブでは3kV(トライアキシャル)、5 kVおよび10 kV(同軸)タイプが用意されており、低リークでの電流測定が可能です。
MPIのハイパワー・プローブカードは10 kVまで放電を防止して、150°Cの温度範囲で使用できます。
薄いウエハの扱い
TS2500チャックは、専用カセット、エンドエフェクタおよびリフトピンにより、最小50 μmの厚さまでのウエハをハンドル可能です。これにより、Ill-V族の化合物半導体の薄いウエハも扱えます。
MPIのハイパワープロービング・ソリューションには専用のMPI固有のマルチコンタクト・チップ型低コンタクト抵抗保証の高電流プローブが含まれます。また、MPlの高電圧プローブでは3kV(トライアキシャル)、5 kVおよび10 kV(同軸)タイプが用意されており、低リークでの電流測定が可能です。
MPIのハイパワー・プローブカードは10 kVまで放電を防止して、150°Cの温度範囲で使用できます。
TS2500チャックは、専用カセット、エンドエフェクタおよびリフトピンにより、最小50 μmの厚さまでのウエハをハンドル可能です。これにより、Ill-V族の化合物半導体の薄いウエハも扱えます。
MPI常温および温度チャック
産業賞を受賞したMPI & ERS 温度チャックはAC3冷却テクノロジー(特許取得済み)およびMPIのShielDEnvironment™に対するパージングにCDAの再利用することにより、システムに必要となるCDAの消費量をマーケットにある他の製品より50%削減しています。
MPI ShielDEnvironment™
優れたチャンバー機構によりEMIシールドおよび遮光を提供し、低雑音および低容量測定を実現します。TS2500-SEプローブ システムにはMPI ShielDEnvironment™機構がついており最大4つのRFポートまたは8ポートまでのDC/ケルビン構成が可能です。
MPI SENTIO®
簡単で使い易い最新型マルチタッチ型プローブシステム・コントロール・ソフトウエア、SENTIO®は複雑な操作が要求される、今日のプローブシステムのコントロールに最適なソフトウエアです。
MPIのゴールはオペレータの操作習得ための時間を短縮し、オペレータの仕事をより、容易なものにすることです。TS2500シリーズの様なフルオート・プローブシステムでもそれを実現しています。
完全テスト・ソリューション
TS2500はMPIの持つRF、ハイパワー用先端アクセサリ、すなわちマイクロポジショナ、RFケーブル、RF校正基板、 TITAN™ RFプローブおよびハイパワー用測定器接続キット、 Taikoウエハのサポート、放電防止用トレイ(LiquidTray™)などを用いて精度の高いRFおよび ハイパワー測定を実現します。
Rohde & Schwarzとの協力により、できるだけDUTの近くにVNAを設置することにより、正確なSパラメータ測定を実現しました。また、先端のRF校正法を用いることにより、TS2500-RFはRF製造ラインでの完全テスト・ソリューションを提供します。
