TS2500シリーズ -製造ライン向けフルオート・プローブシステム
特長と利点
薄いウエハの扱い
TS2500-RFの独自なチャックおよびリフト・ピンによりⅢ-V族の化合物ウエハの課題である50 µmまでの薄ウエハを安全に取り扱えるようになりました。RFチャックに加えてRF校正基板やクリーニング用基板を載せるための2台のセラミック製補助チャックが用意されています。この補助チャックにより高精度なRF校正が実現できます。もう一方の補助チャックはクリーニング用チャックとして使用できます。温度チャックも用意されています。ハイパワーチャックは低い接触抵抗と金メッキされたチャックトップで構成されており、70 µmまでの薄いウエハを搭載することができます。オプションでTAIKOウエハにも対応可能です。
優れたスループット
自動化には150/200 mmデュアル・エンドエフェクタおよびデュアル・ウエハ・カセットが採用されています。これにより、ウエハの高速交換が可能になり、測定の高速化がはかれます。TS2500-RFは毎秒10ダイ(システム構成により異なります)測定が可能で、ディスクリートRF デバイス、IC、ハイパワーデバイス等の製造ラインにおける測定に有効に使用できます。
アライメント機構
T2500-RFプローブシステムにはオフアキス・カメラおよびチャックに搭載されているアッパルッキング・カメラにより高精度なアライメント機能があり、複雑なRFデバイスやハイパワーデバイスの自動測定を可能にします。MPIのPA(Photonics Automation)事業部のこれまでの経験を活用して、安全で信頼性の高い測定を保証します。
電圧、高電流、ウルトラ・ハイパワープローブ
MPIのハイパワープロービング・ソリューションでは専用の高電圧プローブ(HVP)、高電流プローブ(HCP)およびウルトラ・ハイパワープローブ(UHP)を用意しております。MPIの高電圧プローブ(HVP)では3kVまで(トライアキシャル)または5kV & 10kVまで(同軸)の高圧試験を可能にし、かつその時の低リーク電流測定も可能にします。高電流プローブでは接触抵抗を少なくするため、マルチコンタクト型の針を使用しています。これに加えてMPI のウルトラ・ハイパワープローブ(UHP)はHVPおよびHCPの両方の機能を有しており、プローブを交換することなく。高電圧、高電流の測定が可能です。
完全な測定ソリューション
TS2500はMPIの持つ先進RF、ハイパワー・アクセサリと一緒に使用できます。RF測定用にはマイクロポジショナ、RFケーブル、校正基板、TITAN™ RFプロー ブ、ハイパワー測定用に測定器との接続パッケージ、TAIKOウエハのサポート、放電防止用トレイ、LiquidTray™ 等も用意しています。
またDUTと測定器の距離をできるだけ近くなるような設計を施しています。MPIは Rohde & Schwarz社等の測定器メーカと協力し、新しい校正手法を開発し、VNAとのインテグレーションをより完全なものにしています。TS2500-RFは製造工程における複雑なRFデバイスの自動測定に最適です。
違いはソフトウェアから
制御用ソフトウェアSENTIO®
MPIのエンジニアリング用オート・プローブシステムはユニークで革新的な、マルチタッチ・オペレーション型ソフトウェアSENTIO
SENTIO