先進半導体・フォトニクス特性評価フォーラム

MPI Corporation、先進半導体・フォトニクス特性評価フォーラムにて技術講演を実施

MPI Corporationは、2026年9月10日に米国ニューメキシコ州アルバカーキで開催される Advanced Semiconductor & Photonics Characterization Forum（先進半導体・フォトニクス特性評価フォーラム） に参加します。
本フォーラムでは、RF、フォトニクス、量子材料、先進半導体の特性評価・テストをテーマに、技術講演およびライブデモンストレーションを通じて、最新の技術動向や測定ソリューションを紹介します。
本フォーラムは、Microsanj、Keysight Technologies、MPI Corporation、Focus Microwaves、Gel-Pak が共同で開催し、RF、マイクロ波、フォトニクス、熱特性評価・計測など、幅広いテスト・計測分野の専門知識を結集します。

 

MPI技術講演

9:30 AM｜研究開発（R&D）から量産（HVM）へ：光電コンポーネントのテスト技術
Lawrence Vandervegt｜MPI AST
Lawrenceは、光電コンポーネントのテストが初期の研究開発段階から高量産（HVM）へ移行する中で、プローブおよびテストインフラ、テスト自動化、歩留まり向上に向けたデータ活用などに求められる要件がどのように変化しているかについて解説します。
また、ニューメキシコ州で拡大を続けるフォトニクスおよび量子コンピューティングのエコシステムについて、MPIの視点から紹介します。

10:05 AM｜RF測定の精度と信頼性を高める：大信号・DC測定・雑音パラメータにおける最新技術
Sajjad Ahmed｜Focus Microwaves — An MPI Company
Sajjadは、5Gおよび6G技術の進展がRF測定技術にもたらす影響について解説します。
講演では、ウェハ上での特性評価における課題、校正手法、プローブ技術の進化、トランジスタの小信号・大信号解析などを取り上げ、特に50 Ω系ではないデバイスの測定における課題にも焦点を当てます。さらに、**シグナルインテグリティ（Signal Integrity）**および LNA（低雑音増幅器）性能に対する要求の高まりについても紹介します。

 

  • 開催日: 2026年9月10日（木）
  • 時間: 9:00 AM – 4:00 PM（MT／山岳部時間）
  • 会場: Nuclear Science & History Museum（米国ニューメキシコ州アルバカーキ）
  • 参加部門: 先端半導体テスト | Focus Microwaves

 

参加費無料・ランチ付き
最新の技術情報やライブデモンストレーションをご覧いただきながら、エンジニアや業界の専門家と交流できる機会です。

ぜひご参加ください。
Advanced Semiconductor & Photonics Characterization Forum – Microsanj

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